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グレースケール露光を行った厚膜レジストを用いた石英ガラスの立体加工。Φ50 μmの段階構造を形成しています。レジストに対するSiO₂の選択比は1:1程度。
《ご提供》
山形県工業技術センター様
プラスチックス 2018年12月号より引用
使用している製品
RIE-400iPB
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