Aqua Plasma®
Aqua Plasma® クリーナーは、水蒸気(H₂O)を用いた新しいプラズマ処理装置です。酸化した金属の還元、接合、親水化、有機物の分解を効率的かつ安全に行うことができます。
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Aqua Plasma® クリーナー AQ-2000
A３基板処理対応
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Aqua Plasma® クリーナー AQ-500
省スペースモデル
プラズマクリーナー
各種半導体、電子デバイス表面のクリーニングや改質、レジストのアッシングなどを目的とした平行平板型プラズマクリーナーです。
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プラズマクリーナー PC-2000
400 mm角基板対応
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プラズマクリーナー PC-300
コンパクトな平行平板型装置
UVオゾンクリーナー
「紫外線照射」、「高濃度オゾン」、「ステージヒーターによる熱」の相互作用で、シリコンウエハなどの基板や電極のクリーニングを行う、各種半導体、電子デバイス製造のためのドライ洗浄装置です。
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UVオゾンクリーナー UV-1
コンパクト装置
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UVオゾンクリーナー UV-300H
高速アッシング装置
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UVオゾンクリーナー UV-300HC
生産用カセット装置
