UVオゾンクリーナー UV-300HC

概要

UV-300HCは高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用を利用して各種半導体ウエハの表面有機物除去やフォトレジストの剥離を電気的ダメージレスで行うカセット式の量産装置です。

特長

処理モードの選択が可能

用途に応じてUVモード、オゾンモード、UVオゾンモードの処理の選択が可能です。

ウエハ枚葉処理

ø6" およびø8" ウエハの枚葉処理が可能です。

トレイカセット対応

トレイ搬送による各種小径ウエハの多数枚バッチ処理にも対応可能です。

応用例

・各種半導体ウエハの表面有機物洗浄ならびに表面処理
・フォトレジストの高速ストリッピング(200~300nm/min)
・フォトレジストのUVキュアリング(オゾン未使用時)
・ITO電極の表面クリーニング
・シリコン、化合物半導体、各種ディスクなどのクリーニング

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