UVオゾンクリーナー UV-1

概要

本装置は各種半導体プロセスのドライ処理が可能なUVオゾンクリーナーです。フォトレジストのアッシング、シリコンやサファイアウエハのクリーニングなど有機物除去や表面改質が可能です。UVランプとオゾナイザーと加熱ステージを備え、紫外線照射とオゾンと熱の相互作用により、基板に電気的ダメージを与えることなく、効率よく洗浄・表面改質することが可能です。

特長

  • 紫外線(UV)と高濃度オゾン(O₃)とステージヒーターの熱を併用しているため、高効率の洗浄が可能です。
  • イオン、電子による素子へのダメージがありません。
  • 非貴金属系触媒のオゾン分解器を付属しているため、オゾン処理設備が不要です。
  • 大気圧処理のため真空システムが不要です。
  • ワンタッチで自動運転が可能です。
  • コンパクトでメンテナンスが容易です。

応用例

  • フォトレジストのアッシング、ディスカム
  • 親水化処理
  • シリコン、化合物半導体、水晶、ITO膜、レンズなどのクリーニング
  • 有機物除去、表面改質

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