UVオゾンクリーナー UV-300H

概要

UV-300Hは、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニングなど各種半導体プロセスのドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された洗浄装置です。本装置は当社従来機によるUVオゾン処理に比べ、高速処理が可能です。

特長

高速アッシング処理

当社従来機によるUVオゾン処理に比べ、高速処理(200~300nm/min)が可能です。

オゾン除去器内蔵

非貴金属系触媒のオゾン除去器を装置に搭載しており、オゾン処理設備が不要です。

応用例

・インクリムーバル
・ディスクのクリーニング、表面処理
・溶剤残留物の除去
・ITO電極の表面クリーニング
・シリコン、化合物半導体などのクリーニング

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