マイクロ流路デバイスの作製

《大阪大学 谷口研究室 ご提供》

研究開発用のシリコン深掘り装置Model: RIE-400iPBにより、Siを垂直に加工し、マイクロ流路を作製しています。RIE-400iPBは、数nmという極微細な領域の加工や高アスペクト比のシリコン深掘りが可能です。

≫Samco-Interview 大阪大学 谷口正輝先生

使用している製品

RIE-400iPB