製品情報マイクロレンズアレー

《産業技術総合研究所　西井準治先生　金高健二先生　ご提供》

SiO₂基板上に所定のリフロー温度となるよう、LSCVD®装置でP、BドープのSiO₂のレンズ層を形成し、これをICPエッチング装置で円柱状にドライエッチングしたあと、リフロー(900～1150℃の範囲)を行いレンズを形成した。

レンズの曲率は、エッチング条件、膜厚、リフロー温度などで制御が可能である。