平行平板型RIE装置 RIE-200NL
塩素系ガスに対応したロードロック式RIE装置

概要

RIE-200NLは、納入実績の豊富な平行平板型RIE装置『RIE-10NR』での経験をもとに開発したロードロック式装置です。本装置では、Si、Poly-Siなどの各種シリコン薄膜およびGaNやGaAsなどの化合物半導体の高精度エッチングが可能です。価格は低廉でありながら、PLCコントロールで全自動運転及びプロセスパラメータの保存ができる高性能なコストパフォーマンスに優れた装置です。

特長

ロードロック室を搭載

塩素系ガスプロセスが可能。また、良好なプロセス再現性を実現。

ø8"ウエハの加工が可能

コンパクト設計の省スペース装置でありながら、最大ø8"ウエハの加工が可能です。

全自動運転

操作はタッチパネルによる全自動運転であり、PLCコントロールによりプロセス管理やデータロギングが可能です。

応用例

・Si、Poly-Si、SiO₂、SiNなどの各種シリコン薄膜の高精度エッチング

・GaN、GaAs、InPなど化合物半導体のエッチング

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