平行平板型RIE装置 RIE-200NL
塩素系ガスに対応したロードロック式RIE装置

概要

本装置は、納入実績の豊富な平行平板型RIE装置『RIE-10NR』での経験をもとに開発したロードロック式装置です。本装置では、Si、Poly-Siなどの各種シリコン薄膜およびGaNやGaAsなどの化合物半導体の高精度エッチングが可能です。PLCコントロールで全自動運転及びプロセスパラメータの保存ができる高性能なコストパフォーマンスに優れた装置です。

特長

  • 最大⌀8インチウエハの枚葉処理、トレイ搬送による小径ウエハの多数枚同時処理
  • 対称なガスフローによる良好な均一性を実現する四方向排気
  • 塩素系ガスプロセスに対応し、良好なプロセス再現性を実現
  • タッチパネルによる全自動運転、PLCによりプロセス管理やデータロギング機能を装備
  • 各種インターロックと異常検知機能による安全な運用

応用例

  • Si、Poly-Si、SiO₂、SiNなどの各種シリコン薄膜の高精度エッチング
  • GaN、GaAs、InPなど化合物半導体のエッチング

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