製品情報平行平板型RIE装置 RIE-10NR

RIE-10NRは、Si、Poly-Si、SiO₂、SiNなどの各種シリコン薄膜の異方性加工を目的とした平行平板型反応性イオンエッチング (RIE:Reactive Ion Etching) 装置です。本装置は、PLCコントロールによる自動運転およびプロセスパラメータの保存ができるコストパフォーマンスに優れたRIE装置です。

ø8インチウエハの加工が可能

コンパクト設計の省スペース装置でありながら、最大ø8インチウエハの加工が可能です。

自動運転

タッチパネル操作による自動運転であり、PLCコントロールによりプロセス管理やデータロギングが可能です。

豊富な納入実績

発売以来、改良を加えつつ進化してきた本装置は、300台以上の実績を有します。

・Si、Poly-Si、SiO₂、SiNなどの各種シリコン薄膜の高精度エッチング

・半導体レーザの製作

・欠陥解析