平行平板型RIE装置 RIE-10NR
平行平板型RIEのエントリーモデル

概要

RIE-10NRは、Si、Poly-Si、SiO₂、SiNなどの各種シリコン薄膜の高精度エッチングを目的とした平行平板型反応性イオンエッチング(RIE:Reactive Ion Etching)装置です。本装置は、価格が低廉でありながらPLCコントロールで全自動運転およびプロセスパラメータの保存ができる高性能でコストパフォーマンスに優れたRIE装置です。

特長

ø8インチウエハの加工が可能

コンパクト設計の省スペース装置でありながら、最大ø8インチウエハの加工が可能です。

全自動運転

操作はタッチパネルによる全自動運転であり、PLCコントロールによりプロセス管理やデータロギングが可能です。

豊富な納入実績

発売以来、改良を加えつつ進化してきた本装置は、300台以上の実績を有します。

応用例

・Si、Poly-Si、SiO₂、SiNなどの各種シリコン薄膜の高精度エッチング

・半導体レーザの製作

・欠陥解析

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