第38回電子材料シンポジウム(EMS-38)

日時
2019年10月9日(水)~11日(金)
場所
THE KASHIHARA(奈良県橿原市)
出展製品

ICPエッチング装置(GaN、GaAs、InPなど化合物半導体のエッチングプロセス)

PECVD装置、ALD装置(SiN、SiO<sub>2</sub>の成膜プロセス)

ミストCVDプロセス

リンク

http://ems.jpn.org/doku.php/start