プラズマCVD装置 PD-220NL
研究開発用プラズマCVD装置

概要

PD-220NLは、納入実績の豊富なプラズマCVD装置『PD-220シリーズ』での経験をもとに開発したロードロック式装置です。本装置は、コンパクトな設計でありながら基板有効径がø220mm あり、トレイ搬送により小径ウエハの複数枚同時成膜が可能です。各種シリコン系薄膜(SiO₂、SiN等)の形成を目的としており、最先端の研究から量産まで幅広く対応可能です。

特長

ø8インチウエハへの成膜が可能
コンパクトな設計でありながら、試料はø3インチウエハなら5枚、ø4インチウエハなら3枚の同時成膜、ø8インチウエハ1枚の成膜が可能です。

ロードロック室を搭載
ロードロック室を装備しているため安定したプロセスが可能です。

応用例

各種シリコン系薄膜の形成
シリコン窒化膜、シリコン酸化膜、アモルファスシリコン膜の形成が可能です。

オプション

TEOS-SiO₂膜を形成するTEOS恒温槽ユニットを増設できます。

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