¹CVD装置とは薄膜(はくまく)形成装置の一つで、半導体の表面に10nmから1000nm程度の薄い膜を堆積する装置です。
　薄膜の原料としてさまざまな種類のガスが使用されていますが、薄膜形成にはこれらのガスに化学反応を起こさせる必要があり、その手段として「熱」「光」「プラズマ」などが利用されています。サムコではプラズマを利用したCVD装置を製造しており、熱や光と違って、比較的低温で細い溝の中に成膜することが可能なため、オプトエレクトロニクスや電子部品分野で数多くご使用いただいております。
　薄膜を形成することで、半導体を水やほこりなどから守ります。また、電気を通さない絶縁膜を形成したりします。薄膜の防水性や絶縁性は、半導体の特性や安全性に大きな影響を与えるため、薄膜の品質は非常に重要なものであると言えます。

¹ CVDとはChemical Vapor Depositionを省略した言葉で、日本語で化学気相成長と言います。 （chemical：化学的な　vapor：蒸気・気化物質　deposition：堆積・沈殿）。

→サムコ株式会社のCVD装置