5月9日（金）、岐阜大学TOIC棟にて開催された「高機能トライボ表面プロセス部会 第26回例会／第83回CVD研究会／第5回c-ARPプラズマセミナー」において、当社の技術部員が講演を行いました。
講演タイトルは「サムコのプラズマ技術によるALD装置・プロセス開発 ～未来を拓く薄膜技術～」。本講演では、当社最新のプラズマALD（原子層堆積）装置や、それに関連するプロセス開発の取り組み、その応用例を紹介しました。
会場のOKB岐阜大学プラザ 1階の様子
講演後には多くのご質問やご意見を頂戴し、参加者の皆様との間で活発な意見交換が行われました。このような貴重な機会を通じて、当社技術へのご関心を賜りましたことに深く感謝申し上げます。
今後も当社は、薄膜技術の発展に貢献できるよう、引き続き技術の研鑽に努め、産業界および学術分野との連携を大切にしてまいります。
＜お問い合わせ＞
サムコ株式会社
広報宣伝室 土橋 篤志
075-621-7841