產品紫外光臭氧清洗

特色

Samco有各式各樣的R&D及量產用的紫外光臭氧清洗機. 不同於一般的紫外光臭氧清洗機, 本公司的系統使用工作台面加熱及臭氧產生器的雙效效果達到優越的製程能力. 精小桌上型的紫外光臭氧清洗機方便於在有限空間的研究室進行樣品的製作. 本公司的直接放置晶圓於工作台處理的紫外光臭氧系統最大可處理300mm晶圓, 且裝置比一般電漿清洗機，更有利於降低離子及充電造成的破壞性. 針對量產廠商, 本公司也有提供Cassette對Cassette之晶圓轉換系統.

FAQs about 紫外光臭氧清洗

和其他技術的清洗機比較, 紫外光臭氧的優點是什麽？

表面清潔及樣品加工有衆多方法可以選擇, 但是紫外光臭氧清潔機有幾個特色優於其他技術. 第一項是對基板的低電荷損害. 就電漿處理而言，離子撞擊造成的電荷損害, 恐怕會是一個很大的難題. 而且還會導致降低元件的電氣特性. 紫外光處理可以提供沒有電漿電荷的氧自由基的表面處理. 第二項是不會有具危險性的廢水. 濕式清潔需要處理化學原料的污水. 與濕式清潔相比，紫外光臭氧處理是完全乾式製程. 本公司的紫外光臭氧清潔機，具備臭氧分解器, 排出的臭氧是在設備内分解.所以不需要擔心在無塵室内時的臭氧傷害.

紫外光清潔機是用在什麽製程？

紫外光臭氧表面處理應用在各種材料研究及元件加工. ・矽晶片的表面處理, 塑膠封裝. ・III-V族化合物半導體晶圓, 例如MOCVD及ALD製程前的GaAs及InP處理. ・元件封裝的IC導線架及墊片清潔. ・聚合物基板的表面改質. ・表面活化. ・改善微流體流道的親水性. ・基板直接貼合時的黏著性改善, 例如玻璃, PDMS, PMMA, COC及COP. ・表面氧化(薄膜氧化層沉積) ・有機污染清除 ・光阻灰化及去除 ・紫外光固化, 溢氣(Outgassing)及光阻硬烤 ・光阻浮渣去除 ・AFM探針清洗 ・石英晶體微天平(QCM)感應器表面清洗 ・表面電漿共振試片清洗 ・聚合物和光阻的紫外光核酸固著

紫外光臭氧清洗機如何處理？

紫外光臭氧清洗和幾項表面化學反應因素有關. 第一項要素是紫外光的照射. 紫外光(UV)燈泡的照射有2種波長(185及254nm). 各個波長對化學反應有不同的作用. 185nm的紫外光是分解氧分子O2成爲三重態氧0(3P). 三重態氧和氧O2分子結合就會成爲臭氧O3. 另一方面，254nm的紫外光是分解臭氧O3, 形成氧分子O2及單態氧O(1D). 單態氧有很强的氧化力, 它與基板表面產生反應. 這個反應能使無機基板表面被氧化，例如矽晶片. 就有機物來說, 當鏈狀分子斷鏈，殘餘的污染物會隨著揮發性副產物, 例如CO, H2O及O2, 漸漸從基板上被移除. 第二項要素是試料工作台面的溫度. 對紫外光的處理, 台面的溫度也是關鍵的因素之一. 雖然254nm的紫外光分解臭氧及形成單態氧, 但活性種的生命周期很短 (大概10ms). 因此，單態氧的密度是紫外光清洗製程的瓶頸. 改善活性種的關鍵是升高台面溫度. 臭氧的熱分解會在超過100C°C的高溫下加速，且提供高密度的單態氧給試料表面. 調整試料的台面溫度對某些應用元件來説，非常有效. 由高溫臭氧分解引起的較高溫氧原子密度可以顯著提高光阻的灰化速率.