紫外光臭氧清洗機 UV-1
精簡桌上型系統

概要

UV-1是精簡的桌上型紫外光臭氧清洗機. 利用獨特的柴外光, 臭氧及檯面加熱，達到溫和且有效地去除多種基板上的有機物. 包含矽, 玻璃, 化合物半導體(GaN, GaAs, InP及SiC), 藍寶石, 陶瓷等基板.

特色

  • 最大可處理 ø100 mm基板及4吋晶片.
  • 加熱檯面能加快清洗速率及實現廣汎的製程溫度.
  • 精簡, 使用最小的桌上空間.
  • 方便, 在大氣壓下操作 - 不需要真空系統
  • 溫和, 完全乾式製程. 基板不會被靜電造成破壞.
  • 有保障的上蓋連鎖機制. 上蓋開啓時系統無法操作.
  • 備有臭氧分解裝置, 可保持排氣時降低到安全的臭氧濃度.
  • 安全措施有自動N2 purge循環, 加熱檯面的保險絲保護, 臭氧洗滌(scrubber)及緊急停止按鈕.

應用

  • 塑膠封裝及引線框架表面清洗
  • 化合物半導體(GaN, GaAs, InP, and SiC)的表面清洗
  • 表面改質(親水性及增進附著力)
  • 表面氧化(氧化薄層的形成)
  • 光阻的灰化，去除，殘留清洗
  • 去除有機污染物
  • UV硬化

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