紫外光臭氧清洗機 UV-300H
高效率的ashing rates 200 - 300 nm/min

概要

UV-300H是高效能，精簡型紫外光臭氧清洗機. 使用滑動式工作臺把基板上載到系統内. 利用獨特的柴外光, 臭氧及檯面加熱，達到溫和且有效地去除多種基板上的有機物. 包含矽, 玻璃, 化合物半導體(GaN, GaAs, InP及SiC), 藍寶石, 陶瓷等基板.

特色

  • 最大可處理 ø300 mm基板及12吋晶片.
  • 200 - 300 nm/min的高速ashing rates.
  • 加熱檯面加能加快清洗速率及實現廣汎的製程溫度.
  • 使用檯座及石英擴散片間距調整, 可改善整個基板的均匀性.
  • 精簡, 使用最小的無塵室空間.
  • 方便, 在大氣壓下操作 - 不需要真空系統
  • 溫和, 完全乾式製程. 基板不會被靜電造成破壞.
  • 備有臭氧分解裝置, 可保持排氣時降低到安全的臭氧濃度.

應用

  • 塑膠封裝及引線框架表面清洗
  • 化合物半導體(GaN, GaAs, InP, and SiC)的表面清洗
  • 表面改質(親水性及增進附著力)
  • 表面氧化(氧化薄層的形成)
  • 光阻的灰化，去除，殘留清洗
  • 去除有機污染物
  • UV硬化

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