当社は、去る2025年9月1日、インド工科大学デリー校（IIT Delhi）にて、当社代表取締役会長 辻理が招待講演を行ったことをお知らせいたします。
講演は「4 Decades of Plasma CVD & ALD」と題して実施され、IIT Delhiの工学部・エネルギー科学工学部を対象に行われました。内容は、プラズマCVD（Chemical Vapor Deposition）およびALD（Atomic Layer Deposition）の40年にわたる発展の歴史、最新の研究動向、産業への応用、そして今後の応用可能性に焦点を当てました。さらに、当社が展開する薄膜形成の優位性についても解説され、参加者との間で活発な質疑応答が行われました。
当社はこれまでも、インドの有力研究機関との共同研究や技術交流を推進しており、今回の講演もその一環として実現しました。インドは今後の半導体産業における重要なパートナーであり、特にIIT Delhiはアジアを代表する理工系研究拠点として高い評価を受けています。
辻は講演の中で、
「世界の大学・研究機関と連携し、次世代技術の創出に取り組むことはサムコの使命です。今回の講演を通じて、インドの若い研究者・学生の皆さまと未来を共創できることを大変光栄に思います」
と述べました。
当社は、インドを含むグローバルな研究コミュニティとのネットワークを一層強化し、半導体・エネルギー分野における技術革新と持続可能な社会の実現に貢献してまいります。
＜お問い合わせ先＞
サムコ株式会社
広報宣伝室 土橋 篤志
075-621-7841
tsuchihashi@samco.co.jp