去る2017年12月21日、マレーシア ペナン島のUniversiti Sains Malaysiaで開催されたThe 4th Meeting of Malaysia Nitrides Research Group (MNRG) 2017に、当社開発部の菅原博士が招待いただき、講演を行いました。「Cutting-edge technology for Ⅲ-Ⅴ nitrides plasma dry etching process」と題して、世界最先端の窒化物半導体ドライエッチングプロセスを紹介しました。講演後は多くの質問をいただき、活発な議論が交わされました。
講演の様子
講演後の集合写真