来る4月23日から26日まで、化合物半導体に関係する製造装置、材料関連メーカーや大学研究機関が一同に会する国際会議CS ManTechがアメリカ マサチューセッツ州のボストンパークプラザホテルで開催されます。
　当社は化合物半導体のソリューションプロバイダーとして本会議に出展し、パワーデバイス用の材料として注目を集めているSiC、GaNのエッチング技術や、独自の低温成膜用プラズマCVD装置を最新の技術データとともに紹介いたします。
　ご来場くださるお客様に満足いただける展示となるよう準備を進めてまいります。

※ 当社は本会議にて以下の論文を発表いたします。
「Chlorine-Based ICP Etching for Improving the Luminance Efficiency in Nitride LEDs」