活性離子(RIE)蝕刻系統RIE-10NR
新穎小體積高效能

Description

新型的低價高效能,全自動的活性離子蝕刻系統. 滿足需要無腐蝕性化學氣體的製程. 電腦化的觸控面板, 提供人性化界面進行參數設定及儲存. 具備精準的側壁面形及高選擇比蝕刻. 平滑小型的設計不占無塵室空間.

Key Features and Benefits

  • 最大可加工ø220mm (ø3” x 5, ø4” x 3, ø8” x 1)
  • 高選擇比, 非等向蝕刻滿足製程需求.
  • “one-button”的全自動操作, 也可以改爲完全手動.
  • 電腦化的觸控面板, 提供人性化界面進行參數設定及儲存.
  • 與氣體流量獨立的自動壓力控制,可精準控制製程壓力
  • 乾式真空幫浦及系統的配置,易於進行維修保養.
  • 可靠耐久. 在世界上銷售超過400台以上

Applications

  • 蝕刻多種材料. 如: Si, SiO2, SiN, Poly-Si, GaAs, Mo, Pt, Polyimide等
  • 選擇蝕刻層進行缺陷分析
  • 光阻灰化(ashing), 剝離(stripping)及清除(descuming).
  • 表面改質 (親水性及黏著力改善)