電漿輔助化學氣相沉積(PECVD)設備 PD-3800L
批次製程系統

概要

PD-3800L是量產用途的電漿CVD設備,載有ø360mm的大面積承載盤,可同時處理多片小尺寸晶圓。此設備裝載了晶圓搬送腔體所以可達到良好的製程穩定性。可應用於化合物半導體和矽的製程的絕緣膜和鈍化膜,沉積各種矽系薄膜(SiO₂、SiN、非晶矽等)。

特色

可同時處理多片小尺寸晶圓
ø360mm的大面積承載盤可同時處理複數片晶圓(ø2”×26片、ø3”×12片、ø4”×7片、ø6”×3片)。

優秀的盤內均勻性
獨特的反應腔體構造可實現優秀的承載盤內的均勻性和批次間的穩定性。

搭載晶圓搬送腔體
可達到穩定的製程。

應用

各種矽系膜的沉積
氮化矽膜、氧化矽膜、非晶質矽膜

選項

晶圓移載機可實現晶圓匣(Cassette)和晶圓承載盤(Tray)之間的自動搬送,進而提高產量。