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Tornado ICP®

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近年來LED和功率半導體元件等,強調節能減碳的綠色裝置受到越來越多的關注。對於其原料,化合物半導體的微細加工的要求也越來越高。

ICP蝕刻設備擁有比傳統平行平板式RIE設備高1000倍的電漿密度,並且可處理更多製程。然而,ICP蝕刻設備很難維持電漿的均勻度。


為了解決這個問題,莎姆克研發出3D構造的龍捲風ICP線圈(Tornado ICP®)。此種線圈可製造出高均勻度的電漿。


Magnetic Field by Tornado ICP®


Electric Field by Tornado ICP®   

(a)Coutour Line of Electric Field by Tornado ICP®


(b)Magnetic Field by Tornado ICP®


莎姆克進行了電磁場的模擬實驗來改善龍捲風ICP線圈的信賴性及效能。透過這些模擬實驗莎姆克得到了能產生最佳均勻度的數據。龍捲風ICP蝕刻設備不只可向化合物半導體的製程提供高均勻度、高蝕刻速率以及高長寬比的蝕刻,對於矽和金屬薄膜也能提供同樣的效能。因此,龍捲風ICP設備也被使用在其他產業的生產及研究中。

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