ICPエッチング装置 RIE-200iPN
高性能かつコンパクトな高密度プラズマエッチング装置

概要

1997年に販売を開始したフラッグシップモデルRIE-200iPの後継機。RIE-200iPは姉妹機を含め300台以上の販売実績を誇ります。その資産をすべて引き継ぎ、さらに進化させた高性能装置です。

特長

  1. 新型ICPソース「HSTC: Hyper Symmetrical Tornado Coil
  2. ・高RFパワー(2 kW以上)を効率よく安定して印加可能で、良好な均一性を実現します。
  3. コンパクト排気システム
  4. ・排気性能を維持しつつ、コンパクトさを追求した独自の排気システムを採用することで、幅広いプロセスウィンドウと省スペースを実現しています。
  5. 操作性、メンテナンス性に優れた設計
  6. ・人間工学に基づいてタッチパネルやウエハ設置位置の高さなどを設計しています。

応用例

GaNGaAsInPなどの化合物半導体の高精度加工

SiCSiO₂の高速加工

・強誘電体(PZTBSTSBTBT)や電極材料(PtAuRuAl)など難エッチング材料のエッチング

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