当社は、来る4月15日、中国の北京大学で薄膜技術セミナーを開催致します。これまで、中国では薄膜セミナーを2度開催しており、今回のセミナーが3度目の開催となります。2007年に北京の有力大学である清華大学との共同研究開始1周年を記念し、清華大学にて開催しました。2008年には、"Material Innovation"をテーマに上海復旦大学で開催し、両セミナーとも活発な議論が行われ、予想以上の成果がありました。
　今回は、北京大学との共同研究開始を記念して、北京大学窒化物半導体センター長の張国義教授のご協力を得て、北京にて薄膜技術セミナー開催の運びとなりました。
　"Nitride semiconductor its material engineering" をテーマに、北京大学の康香寧准教授をはじめ、鶴山麗得電子實業の葉国光研究員、日本からは、山口大学大学院理工学研究科の只友一行教授、立命館大学総合理工学研究機構の鈴木彰客員教授、当社研究員の中野博彦といった日中の第一線で活躍される窒化物半導体の研究者の方々に講師を務めて頂きます。今回のセミナーも、LEDやパワーデバイスの登場による世界的な窒化物半導体への関心の高まりを背景に、日中間の技術者、研究者様の交流の場として大盛況となるものと期待しております。


　清華大学にて開催した薄膜技術セミナー