第38回電子材料シンポジウム（EMS-38）
- Date
- 2019年10月9日（水）～11日（金）
- Place
- THE KASHIHARA（奈良県橿原市）
- 出展製品
ICPエッチング装置（GaN、GaAs、InPなど化合物半導体のエッチングプロセス）
PECVD装置、ALD装置（SiN、SiO<sub>2</sub>の成膜プロセス）
ミストCVDプロセス
- リンク
Asia - English
ICPエッチング装置（GaN、GaAs、InPなど化合物半導体のエッチングプロセス）
PECVD装置、ALD装置（SiN、SiO<sub>2</sub>の成膜プロセス）
ミストCVDプロセス
