> 洗浄装置
プラスチックパッケージやリードフレーム、液晶基板のクリーニングなどの完全ドライ処理を目的としたプラズマドライ洗浄装置です。
低価格、コンパクト設計な装置から、量産に対応した装置まで幅広く取りそろえています。
・コンパクト設計の研究用装置
・ステージ寸法320×230mm

・処理能力:グランド405×410mm
・処理能力:パワード350×425mm

・量産用マガジンtoマガジン式装置
・Max.80×250mmの材料への処理が可能


高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で、シリコンウエハーやITO電極の表面クリーニングなどを行う、各種半導体プロセスのためのドライプロセス機器です。UVと放電によるオゾン(O3)を併用しているため、高効率のクリーニングが可能です。
・研究開発用装置
・基板ステージ径φ200mm

・研究開発用装置
・基板ステージ径φ370mm

・研究/セミ量産用装置
・基板ステージ径φ300mm

・量産用カセットtoカセット式装置
・φ6in、φ8inウエハーの枚葉処理が可能<
