製品情報平行平板型RIE装置 RIE-200C

RIE-200Cは、納入実績の豊富な平行平板型RIE装置『RIE-10NR』での経験をもとに開発した量産対応のカセット式装置です。本装置では、Si、Poly-Si、SiO₂、SiNなどの各種シリコン薄膜の高精度エッチングやアッシングが可能です。2カセット、ダブルアームロボットの採用により高スループットを実現し、PLCコントロールでの全自動運転およびプロセスパラメータの保存ができる高性能な装置です。

大気カセット室を搭載

カセット式装置では通常装備されるロードロック室を廃し、大気カセット室と大気搬送ロボットを搭載しています。最大ø8インチウエハの自動処理に対応でき、2カセット設置可能です。

全自動運転

操作はタッチパネルによる全自動運転であり、PLCコントロールによりプロセス管理やデータロギングが可能です。

・Si、Poly-Si、SiO₂、SiNなどの各種シリコン薄膜の高精度エッチング

・フォトレジストのアッシング