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PD-3800L

PECVD設備
莎姆克的PD-3800L具有晶圓搬送腔體,是高產能的PECVD設備。它可沉積高質量的氧化矽、氮化矽和非晶矽薄膜。

 

PD-3800L在PD-3800的基礎上加裝晶圓搬送腔體,並擁有直徑350mm的大晶圓承座。

用途

  • 氧化矽(SiOx)膜的沉積
  • 氮化矽(SiN)膜的沉積
  • 陶瓷膜的沉積
  • 非晶矽(a-Si:H)的沉積

特徵

  • 具有晶圓搬送腔體
  • 全自動化操作
  • 高產能
  • 大反應承座(直徑350mm)

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