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PD-220NL

PECVD設備
莎姆克的PD-220NA是一台針對沉積矽系薄膜(SiO2、Si3N4、SiOxNy、a-Si:H)而設計的PECVD設備。這套設備具有PECVD設備的標準功能卻不佔空間,適合研發和小規模量產用途。

用途

  • 氧化矽(SiOx)膜的沉積
  • 氮化矽(SiN)膜的沉積
  • 氮氧化矽(SiOxNy)膜的沉積
  • 非晶矽(a-Si:H)膜的沉積

特徵

  • 具可晶圓搬送腔體可提高製程重複性
  • 最多可處理5枚3英吋、3枚4英吋或1枚8英吋晶圓
  • 均一的沉積速率
  • 全自動化一鍵式操作,同時具有手動操作模式
  • 具有觸碰螢幕可輕鬆輸入數據、修改和保存製程配方
  • 支持不同製程的連續操作(如清洗完畢後直接開始沉積製程)以提高製程靈活性
  • 全套設備安全鎖可保護設備和操作人員

尺寸

設備本體: 590(W) x 1620(D) x 1670(H) mm


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