CVD Systems

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PECVD (Plasma Enhanced CVD) Systems

電漿輔助化學氣相沉積(PECVD)設備式針對沉積絕緣和鈍化膜而設計的。它被應用在半導體和矽器件的製造上。莎姆克的PECVD設備可以沉積高質量的矽系薄膜(SiO2、Si3N4、SiOxNy、a-Si:H)。

LS-CVD (Liquid Source CVD) Systems

莎姆克的LS-CVD(液態源CVD)設備可達到MEMS、三維大規模集成電路以及光電器件需要的高表面覆蓋率。很重要的是,這項技術允許在低溫環境下沉積薄膜而且不使用有毒和可燃性氣體。莎姆克的LS-CVD設備可以沉積高質量的TEOS-SiO2、LS-SiN、High-k以及DLC薄膜。

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