エピタキシャル成膜装置 Epiluvac ER3

概要

当社は、2015年12月にスウェーデンの炭化ケイ素(SiC)エピタキシャル成膜装置メーカーのEpiluvac ABと同社製品の販売代理店契約を締結しました。
 Epiluvac社は世界の代表的な研究機関で使われるSiCエピタキシャル成膜装置の開発、製造、販売に長年携わってきた同社の経営陣らによって2014年に設立され、パワー半導体向けを中心とするSiCエピタキシャル成膜装置の開発、製造を行うベンチャー企業です。

特長

  • ■結晶欠陥を最小化し、良好な均一性により、歩留まりを向上
  • ■ホットウォールCVD方式
  • ■最大1800℃
  • ■反応室に石英部材を用いないため、塩素系プロセスが可能
  • ■枚葉ウエハの自動搬送
  • ■最大ø200 mm (8") ウエハ対応

応用例

  • SiC、GaNのエピタキシャル成膜

オプション

  • クラスターやカセットへのカスタマイズが可能

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