UVオゾンクリーナー UV-300

概要

UV-300は、フォトレジストアッシング、シリコンウエハクリーニングなど各種半導体プロセスのドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された洗浄装置です。

特長

ターンテーブル

ステージ回転機構により均一な処理が可能です。

紫外線×オゾン×熱

紫外線(UV)と高濃度オゾン(O₃)とステージヒーターの熱による高効率のクリーニングが可能です。

電気的ダメージのないドライプロセス

プラズマを使用しないため、電界による素子へのダメージ(電子またはイオン衝撃)がありません。

オゾン除去器内蔵

非貴金属系触媒のオゾン除去器を装置に搭載しており、オゾン処理設備が不要です。

応用例

・インクリムーバル
・溶剤残留物の除去
・ITO電極の表面クリーニング
・シリコン、化合物半導体、水晶、液晶ディスプレイ、レンズ、各種ディスクなどのクリーニング
・有機物除去、表面改質

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