来る2月15日から17日までの3日間、世界最大規模のナノテク展示会であるnano tech 2012国際ナノテクノロジー総合展・技術会議が東京ビッグサイトで開催されます。

　当社は、省エネ技術として注目を集めるパワーデバイス分野で、SiC（炭化ケイ素）やGaN（窒化ガリウム）の加工に用いられるICPドライエッチング装置や低温厚膜成膜用のプラズマCVD装置を最新の技術データと共にご紹介します。

　皆様のご来場をお待ちしております。

→nano tech 2012 公式サイト

nano tech 2011の当社ブースの様子