CVD装置

PD-2203L

PD-2203L(クラスターラボ)は、ロードロック室を中心に反応室を3室まで設置することが可能なモジュール方式の研究試作用プラズマCVD装置です。同一反応室で異種プロセスを連続して行う場合、相互汚染が生じやすく、作業効率の低下につながります。 本装置は、複数のプラズマ反応室を設置することで、それぞれ独立したプラズマ処理専用の反応室として使用することが可能なクラスタータイプのプラズマCVD装置です。ロードロック室を経て真空状態のまま試料を搬送し、異なる成膜プロセスを連続して行うことが可能です。 本装置には、反応室3室タイプ(Model:PD-2203L)のほか、反応室1室タイプ(Model:PD-2201L)と2室タイプ(Model:PD-2202L)もあり、PD-2201LとPD-2202Lは、オプションの反応室ユニット(Model:PD-2201a)の増設で装置納入後もプラズマ反応室を最大3室まで設置することが可能です。

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  • 特長
  • 応用例
  • 専用処理室での複数プロセス処理に対応

    専用処理室での複数プロセス処理に対応 ロードロック室を中心に3室まで設置でき、それぞれ独立したプラズマ処理専用の反応室として使用することが可能です。プロセスの時間短縮、作業効率が大幅に向上します。

  • プロセス処理上の汚染の防止

    プロセス処理上の汚染の防止 同一反応室での連続した異種プロセスで問題となる相互汚染を防止できます。 また、複数の装置使用で問題となる大気接触での汚染、酸化などを防止できます。  

  • コンパクト設計

    コンパクト設計 構造がシンプルで、コンパクトな設計ですので、設置面積の小さい装置です。

  • 液晶試作プロセス

    液晶試作プロセス

  • 有機EL用封止膜の形成

    有機EL用封止膜の形成

  • アモルファスシリコン太陽電池の製作

    アモルファスシリコン太陽電池の製作

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