半導体・電子部品の製造装置

MO（Metal Organic）CVD装置は、LEDや半導体レーザなどの化合物半導体への窒化物単結晶多層膜の形成を目的とした装置です。
サムコは1981年に国産初のMO-CVD装置を開発し市場投入しており、装置開発に豊富な経験を有しています。

MCV-2018

・GaN膜のエピタキシャル成長が可能
・φ2in×18枚、φ3in×8枚の同時成膜